微电子制造工艺(北京信息职业技术学院)1464892466 中国大学MOOC答案2024完整版WYC

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起止时间:2021-09-13到2022-01-16
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第一章 概述 第一章 测验

1、 第一个锗晶体管是()年发明

A:1946
B:1947
C:1957
D:1958
答案: 1947

2、 集成电路的英文简称为( )。

A:IC
B:MCU
C:LCC
D:MIC
答案: IC

3、 8英寸硅片的直径大约()mm。

A:150
B:200
C:300
D:450
答案: 200

4、 微电子学的核心是集成电路。

A:正确
B:错误
答案: 正确

5、 集成电路按器件结构分主要可分为:双极型集成电路、 MOS集成电路和 BiCMOS集成电路等。

A:正确
B:错误
答案: 错误

6、 纳米是长度的单位,1纳米为1微米的1000倍。

A:正确
B:错误
答案: 错误

7、 CD(Critical Dimension)是集成电路中半导体器件的最小尺寸,是衡量集成电路设计和制造水平的重要尺度。

A:正确
B:错误
答案: 正确

8、 集成电路是通过一系列特定的加工工艺,将晶体管等元器件按照一定的电路互连,“集成”在一块半导体单晶片上,封装在一个外壳内,执行特定电路或系统功能的复杂电子系统。

A:正确
B:错误
答案: 正确

9、 集成电路按器件结构分主要可分为:双极型集成电路、 MOS集成电路和 BiCMOS集成电路等。

A:正确
B:错误
答案: 错误

10、 摩尔定律指出集成电路的晶体管的集成度每_____个月翻一番。
答案: (以下答案任选其一都对)18;
十八

第二章 洁净技术 第二章 测验

1、 1000级的概念是每立方英尺空气中所含的直径大于0.5微米的颗粒数不大于( )个。

A:10
B:100
C:1000
D:10000
答案: 1000

2、 高效过滤器的英文简称是( )。

A:LEPA
B:HEPA
C:MIC
D:DHF
答案: HEPA

3、 过氧化氢和碱组成的1号标准清洗液简称是( )。

A:DHF
B:SPM-1
C:SC-1
D:HPM
答案: SC-1

4、 中效过滤器主要滤除大于( )um的尘粒。

A:10
B:5
C:1
D:0.3
答案: 1

5、 尘埃的测量方法有()、()、()。

A:重量法
B:四探针法
C:过滤法
D:计数法
答案: 重量法;
过滤法;
计数法

6、 吸烟不会产生尘埃。

A:正确
B:错误
答案: 错误

7、 风淋室可保证进入洁净室人员进行人身洁净和防止室外空气侵入。

A:正确
B:错误
答案: 正确

8、 乱流洁净室比单向流洁净室洁净度高。

A:正确
B:错误
答案: 错误

9、 洁净度是用每立方英尺空气中所含的直径大于0.5微米的颗粒数来衡量。

A:正确
B:错误
答案: 正确

10、 10000级是指每立方英尺空气中,0.5um大小尘埃的个数不超过10000颗≈______个/升。(四舍五入取整,1立方英尺=28.3168升)
答案: 353

第三章 半导体材料1 第三章 半导体材料1作业

1、 掺入B元素的半导体为()型半导体

A:P
B:N
C:本征半导体
D:中性半导体
答案: P

2、 下列半导体属于第三代半导体的是()。

A:硅
B:锗
C:砷化镓
D:氮化镓
答案: 氮化镓

3、 半导体行业最常用的半导体材料是()。

A:氮化镓
B:石墨烯
C:硅
D:砷化镓
答案:

4、 掺入P元素的半导体为()型半导体。

A:P
B:N
C:中性半导体
D:本征半导体
答案: N

5、 面心立方晶胞原子的个数是()。

A:1
B:2
C:4
D:8
答案: 4

6、 硅的晶体结构是()形状。

A:四面体结构
B:无定形结构
C:六面体结构




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