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2019-11-29到2020-03-31

单元6：薄膜的制备 考一考

1、 光掩模(Mask)制作包括哪些步骤（ ） 　

A:模版设计
B:曝光
C:显影
D:刻蚀
E: 以上全部
答案: 以上全部

2、 下列属于单晶硅材料制造技术的是( )

A:还原法
B:CZ法
C: 氧化法
D:热蒸发
答案: CZ法

3、 由电子离子原子分子或者自由基等粒子组合的集合体是 ( )

A:等离子体
B:分子体
C:电子体
D: 原子体

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